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電子

台湾は世界のエレクトロニクス産業の中心であり、ウエハー、半導体、プリント基板、TFT液晶の製造において、重要な位置を占めております。その中で当社は、台湾のエレクトロニクス産業向けの化学品サプライヤーの一つであり、台湾だけでなく海外へも製品を販売しております。
当社は様々な化学反応を行っており、特にEO/PO付加反応、配合、不純物除去等の技術において優位性を持っております。当社の電子材料用スペシャリティ製品は、プリント基板フラックス、洗浄剤、CMP分散剤、ウエハーカッティング潤滑剤、ウエハーの低起泡性洗浄剤、液晶用現像液に使用可能です。また、当社は特殊精密化学品の分野において更なる開発を促進し、顧客へカスタマイズ製品と技術サービスを提供し、最終製品の価値向上に寄与しております。

ハンダフラックス洗浄剤 Alkyl end-capping alkyl polyoxyethylene ether PH-LF系
銅メッキ添加剤 EO-PO Copolymer SINOPOL PE系
銅メッキ添加剤 EO-PO Copolymer SINOPOL TE系
錫(スズ)メッキプロセス添加剤 Polyethylene Glycol Carboxymethyl Octyl Ether SINONATE TL-521-12
プリント基板用ハンダフラックス Polyoxyethylene Glycerol Ether SINOPOL GL系
プリント基板用ハンダフラックス Polyoxyethylene Sorbitol Ether SINOPOL TL-034
プリント基板用ハンダフラックス Polyethylene Glycol SINOPOL PEG600
光沢剤 アニオン型界面活性剤であり、メッキ面を平滑にし、粒子を細かくし、光沢を出します。 Sodium P.O.E. Alkyl Ether Sulfate SINOPOL E8015SN-S5
光沢剤 ナフトール系ノニオン型界面活性剤であり、メッキ面を平滑にし、粒子を細かくし、光沢を出します。 Polyoxyethylene β-Naphthol SINOPOL B00系

良好な浸透性と分散性を持ち、研磨粒子を安定させ、研磨表面の平坦化を促進します。 Polyoxyethylene 2-Ethylhexyl Ether Phosphate SINONATE E8002P
良好な浸透性と分散性を持ち、研磨粒子を安定させ、研磨表面の平坦化を促進します。 Sodium Dialkyl Sulfosuccinate SINONATE 290MH
良好な浸透性と分散性を持ち、研磨粒子を安定させ、研磨表面の平坦化を促進します。 Ammonium Polyoxyethylene Alkyl Ether Sulfate SINONATE 1105SF
良好な浸透性と分散性を持ち、研磨粒子を安定させ、研磨表面の平坦化を促進します。 Polypropylene glycol SINOPOL R-PPG400

ウエハー洗浄剤であり、起泡性が低く、金属イオンの含有量が低いため、残留している粒子を除去し、表面を保護することができます。 EO-PO Copolymer SINOPOL PE系、SINOPOL RPE系
ウエハー洗浄剤であり、起泡性が低く、金属イオンの含有量が低いため、残留している粒子を除去し、表面を保護することができます。 Polyoxyethylene Polyoxypropylene Butyl Ether SINOPOL R-1424FX
LCD洗浄剤の処方に使用され、洗浄力と汚れ除去力が優れています。 Alkyl Ethoxylate SINOPOL 2300系

液晶用現像液 Nonionic Surfactant SINOPOL 609

ウエハーをカッティングする際、冷却と潤滑の機能を提供します。 ポリオールEO、PO Copolymer SINOPOL EWWS
ウエハーをカッティングする際、冷却と潤滑の機能を提供します。 Polyethylene Glycol SINOPOL PEG200